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第283章 齐磊没空（第4页）

迫不及待，“有多特别！？”

鲍尔森，“这个人不是某个领域的专家，也不是台积电的关键技术工程师，他只是…只是一个车间的技术员？”

说到这儿，鲍尔森又气馁了，“你瞧，我真的在查！可是，这些都没什么用啊！”

他却不知道，电话那头的齐磊已经有答案了——浸润式光刻机！！

EUVLLC当下在搞的技术攻关，就是浸润式光刻机，也就是湿刻法。

就在鲍尔森还懵着的时候，齐磊滴的一声把电话挂了。

鲍尔森人傻了，什么情况？断线了？

再给齐磊拨过去，那边却是占线。

齐磊的电话是打给拜伦。奥古斯特的。

刚一接通，齐磊的问题连珠炮似的打出去。

“台积电今年有增产计划吗？他们退订了尼康的光刻机，却扩建了净水规模，这合理吗？”

“还有，你听没听说过湿刻法？”

拜伦就喜欢老板这么直来直去的，而且是在他擅长的领域，一点不废话。

“据我所知，台积电没有增产计划。”

“第二，都退订了，还要那么多水干什么？有病啊？”

“第三，什么是湿刻法？你又不懂技术，别瞎出主意！”

齐磊，“挂了！”

现在，他可以基本确定，EUVLLC就是在搞湿刻。

在湿刻法，也就是浸润式光刻机出来之前，几大光刻机厂家，包括尼康、阿斯麦等等，都是干刻。

所谓光刻，就是把光打在掩模板上，再投射到晶圆上面，使得晶圆上的光学胶水发生反应，行程电路的过程。

干刻时代，从光源到掩模板再到晶圆是在气体介质中完成光刻的，极限就是193纳米。

而湿刻，顾名思义，就是把在气体介质中进行的光刻过程移到水里。

具体怎么回事儿，反正齐磊也不懂，就知道湿刻比干刻有优势，可以在不改变光刻机其它部件和精度的情况下，突破193纳米的极限。

这也是齐磊在后世的报道中得到的只言片语。

而且还知道，这个从干刻到湿刻的过程，正是台积电的一个技术人员提出来的。

他也是偶然的一个创意，随口说了句，“只要往光刻机里注水，芯片制程就能大幅度提高。”

最后成就了这次技术革命。

是的，没错，就是这么简单！

虽然由原本的光刻技术到湿刻的过程肯定比这么一句话复杂得多，也有难度得多。

可是，原理就是这么简单，就是一个随口而出的创意。

而EUVLLC之所以这么保密，原因也在这儿，太简单了！

往光刻机里灌水，一般人虽然做不到，可是那些光刻机厂家要是听去这么一句话，那想造出来就是分分钟的事儿。

齐磊端着电话，愣在那儿，半天也没回过魂儿来，大脑正是飞速运转。

李憨憨一身居家服，叼着果丹皮，从自己那屋出来。